中科院突破5nm加工法

 

 

现在当今世界,5nm芯片生产工艺可以说是最尖端的科技,国内现在最先进的中芯国际公司也才刚刚突破N+1生产工艺,能够实现大概7纳米生产工艺水平。近日中科院表示张子旸团队光刻方面取得研究进展,在5nm光刻工艺上研发出来一种新型的5nm芯片的加工方法。当前在5nm芯片加工生产中,主流生产技术是光刻技术和极紫光光刻技术两种,而张子旸团队的5nm工艺则是在无掩模光刻技术上的一项研究。传统中的无掩模光刻技术的成本非常低,但是激光的精度却难以掌控,这也是这项技术难以量产应用的原因。

 

 

 

 

张子旸团队本次研究的就是无掩膜光刻技术,通过双激光束交叠技术达到了5纳米的光刻精度,能够实现5纳米芯片的生产。这样的技术不仅让无掩模光刻机光刻精度大大提升,达到了生产5nm芯片的要求,而且生产效率也有所提高。据中国微米纳米技术学会报道,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员,与国家纳米科学中心刘前研究员合作,在其发表的论文讲述了该团队开发的新型5nm超高精度激光光刻加工方法。

 

 

 

 

当然,这个还是一个实验室的技术,想成功应用到生产当中去,可能还需要不短的路要走,但是毕竟5nm光刻新技术已经实现突破,接下来只要在设备制造和生产商再次获得突破,那么未来可能5nm直刻技术就能够很好的应用到生产中去。而且现在张子旸团队在5nm芯片生产研发获得突破,采用的设备应该全部是自研设备,如果未来这项技术能够获得量产的话,那么我国芯片制造产业可能将会实现飞跃发展。

 

 

 

 

从现在来看,国内在芯片制造领域内也在做两方面的准备和研究。一个是激光直刻技术,另一个是研发更先进的EUV光刻机。如果这两个芯片光刻方面的顶尖设备和顶尖生产技术,科研院所以及企业能够获得更快的突破,那么未来我国生产5纳米芯片,甚至是更先进的3纳米,2纳米的芯片都将成为可能。

 

 

 

2020-10-28
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